Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.

Actualizada: 28/05/2025 08:05
Resuelta
Suministros
🇪🇺 Financiación UE
Umbral UE

Presupuesto

680.000,00 EUR

Valor estimado (sin impuestos)

680.000,00 EUR

Valor global estimado

822.800,00 EUR

Total (con impuestos)

Duración: 16 mes(es)

Adjudicación

Adjudicatario
NIF/CIF: B66785080
Importe de adjudicación
679.990,00 EUR
Fecha de adjudicación
08/05/2025

Códigos CPV

Clasificación de productos y servicios

Documentación

13 documentos

Acta Administrativa 04 03 25
Otros Documentos
Acuerdo de iniciación del expediente
Otros Documentos
Memoria especificaciones técnicas
Otros Documentos
Acta valoracion documentacion lic mejor valorado 06 05 25
Otros Documentos
Acta Económica IT Aclaración 27 03 25
Otros Documentos
Informe de valoración de los criterios de adjudicación cuantificables mediante juicio de valor
Otros Documentos
Acta Económica 08 04 25
Otros Documentos
Informe de valoración de los criterios de adjudicación cuantificables mediante juicio de valor
Otros Documentos
Memoria justificativa
Otros Documentos
Acta Técnica 13 03 25
Otros Documentos
Documento de aprobación del expediente
Otros Documentos
PCAP LICITACION 33139 25.pdf
Pliego / Legal
PPT.pdf
Pliego Técnico
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Organismo Contratante

Secretaría General de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas
NIF: Q2818002D
Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas
Secretaría General de Investigación
Sector Público
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Plazo de Presentación

03/03/2025
14:00 h
Plazo cerrado
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Procedimiento

Lugar de ejecución
Barcelona (ES511)
Procedimiento
Abierto
Presentación
Electrónica
Urgencia
Ordinaria
Financiación
Financiación con fondos de la UE
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Fechas

Última Modificación
28/05/2025 08:05
Contenido Exclusivo
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