Suministro e instalación de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) de capas dieléctricas, destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
Actualizada: 18/11/2025 08:05
Resuelta
Suministros
🇪🇺 Financiación UE
Umbral UE
Presupuesto
810.000,00 EUR
Valor estimado (sin impuestos)
810.000,00 EUR
Valor global estimado
980.100,00 EUR
Total (con impuestos)
Duración:
10
mes(es)
Adjudicación
Importe de adjudicación
809.273,00 EUR
Fecha de adjudicación
24/10/2025
Códigos CPV
Clasificación de productos y servicios
31712100
Maquinaria y aparatos microelectrónicos.
38000000
Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto
gafas).
Documentación
11 documentos
Acta Tec 16 09 25
Otros Documentos
Informe de valoración de los criterios de adjudicación cuantificables mediante juicio de valor
Otros Documentos
Acta Eco 30 09 25
Otros Documentos
Memoria justificativa
Otros Documentos
Documento de aprobación del expediente
Otros Documentos
Memoria especificaciones técnicas
Otros Documentos
Acuerdo de iniciación del expediente
Otros Documentos
Acta valoración documentación lic mejor valorado 24 10 25
Otros Documentos
Acta Adm 09 09 25
Otros Documentos
PCAP LICITACION 33454 25.pdf
Pliego / Legal
PPT.pdf
Pliego Técnico
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Organismo Contratante
Secretaría General de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas
NIF: Q2818002D
Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas
Secretaría General de Investigación
Sector Público
Plazo de Presentación
08/09/2025
14:00 h
Plazo cerrado
Procedimiento
Lugar de ejecución
Barcelona
(ES511)
Procedimiento
Abierto
Presentación
Electrónica
Urgencia
Ordinaria
Financiación
Financiación con fondos de la UE
Fechas
Última Modificación
18/11/2025 08:05
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