Suministro e instalación de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma para óxidos internivel destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona.

Actualizada: 09/03/2018 09:32
Resuelta
Suministros
🇪🇺 Financiación UE

Presupuesto

390.000,00 EUR

Valor estimado (sin impuestos)

471.900,00 EUR

Total (con impuestos)

Duración: 4 mes(es)

Adjudicación

Adjudicatario
NIF/CIF: FR00453413692
Importe de adjudicación
389.640,00 EUR
Fecha de adjudicación
25/01/2018

Códigos CPV

Clasificación de productos y servicios

38900000 Instrumentos de evaluación o ensayo diversos.

Documentación

2 documentos

CSIC010203PA18999.doc
Pliego / Legal
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CSIC010203PT18999.rtf
Pliego Técnico
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Organismo Contratante

Secretaría General de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas
NIF: Q2818002D
Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas
Secretaría General de Investigación
Sector Público
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Plazo de Presentación

30/11/2017
18:00 h
Plazo cerrado
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Procedimiento

Lugar de ejecución
Barcelona (ES511)
Procedimiento
Abierto
Presentación
Papel
Urgencia
Ordinaria
Financiación
EU
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Fechas

Última Modificación
09/03/2018 09:32
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